合洁科技电子净化工程：半导体生产车间洁净度要求多少级

  　　芯片封测工作区的洁净度要求根据具体工艺环节和产品特性有所不同，通常介于ISO 5级(百级)至ISO 7级(万级)之间。以下是不同区域的洁净度等级划分及依据，具体就随合洁科技电子净化工程公司一起来了解下吧!

  　　1、核心封测区洁净度要求

  　　ISO 5级(百级)

  　　适用环节：高精度封装(如倒装芯片、晶圆级封装)、光刻工艺区。

  　　微粒控制：0.5μm粒子≤3,520个/m³(或每立方英尺≤100个)。

  　　气流组织：单向流(层流)设计，风速0.3-0.5m/s。

  　　ISO 6级(千级)

  　　适用环节：普通封装(如引线键合)、测试区。

  　　微粒控制：0.5μm粒子≤35,200个/m³(或每立方英尺≤1,000个)。

  　　ISO 7级(万级)

  　　适用环节：后段封装(如塑封、切割)、包装区。

  　　微粒控制：0.5μm粒子≤352,000个/m³(或每立方英尺≤10,000个)。

  　　2、其他辅助区域洁净度要求

  　　物料存储区：ISO 8级(十万级)。

  　　更衣室/缓冲间：ISO 7-8级。

  　　普通通道/办公区：无洁净度要求，仅需舒适性空调。

  　　3、洁净度等级依据

  　　国际标准：ISO 14644-1(按0.1μm/0.5μm粒子数量划分)。

  　　行业规范：SEMI标准(如SEMI F72)。

  　　工艺需求：高精度封装(如3D IC)需更高洁净度。

  　　4、关键控制措施

  　　空气过滤：HEPA/ULPA过滤器(百级区需≥99.99%过滤效率)。

  　　压差控制：相邻区域压差≥5Pa，防止污染扩散。

  　　静电防护：防静电地板(电阻10⁴-10⁹Ω)、离子风机。

  　　芯片封测工作区的洁净度需根据工艺敏感度和产品要求灵活调整，通常核心区为ISO 5-6级，辅助区为ISO 7-8级。具体等级应结合ISO
14644标准和实际生产需求确定。