光刻胶大消息！周末被吹爆了！

  事件：

  1.国家标准委网站显示，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准，10月23日开始公示，截止时间为11月22日。标准的起草单位包括上海大学、张江国家实验室、上海华力集成电路制造有限公司、上海微电子装备（集团）股份有限公司。

  2.据科技日报，近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然·通讯》。

  引爆万亿市场重构

  光刻是整个集成电路制造过程中耗时最长、难度最大的工艺，光刻胶则是光刻过程最重要的耗材，对光刻工艺有着重要影响。随着中国半导体厂商的强势崛起以及下游需求的扩大，光刻胶的市场规模持续增长，据锐观产业研究院报告，2024年我国光刻胶市场规模增长至114亿元以上，KrF光刻胶等中高端产品国产替代进程加快，预计2025年光刻胶市场规模可达123亿元。

  全球市场影响

  全球90%高端光刻胶市场被日本企业垄断，中国技术突破将重塑产业链格局。该领域的技术进展不仅缩短了芯片制造周期，还为半导体材料行业带来“黄金十年”的投资机遇，涵盖材料、设备及创新平台等方向。

  1.国际龙头企业：

  JSR株式会社：成立于1957年，全球领先的光刻胶生产商，光刻胶先进技术引领者，产品涵盖G/I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶（干法/湿法）和EUV光刻胶等。

  东京应化（TOK）：全球领先的半导体光刻胶生产商，产品覆盖橡胶型负性光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶、电子光束光刻胶等。

  信越化学（ShinEtsu）：1998年实现光刻胶产品的商用化，是KrF光刻胶和ArF光刻胶行业领先者，其光刻胶产品涵盖I/g线光刻胶、Krf光刻胶、ArF光刻胶和EUV光刻胶。

  杜邦（DuPont）：全球知名品牌，创立于1802年，世界财富500强，世界较大的化工集团之一，致力于利用科学创造可持续的解决方案，旗下产品覆盖几乎全系列。

  住友化学：住友集团旗下，日本较具代表性的综合性化学企业，生产和提供工业药品、合成纤维材料、铝、合成橡胶、合成树脂、染料、业成品、农药、饲料添加剂、化学肥料等产品。

  默克（Merck）：创建于1668年，拥有约50年历史，总部位于德国达姆施塔特市，主要致力于创新型制药、生命科学以及前沿功能材料技术。

  Dongjin（东进世美肯）：成立于1967年，韩国半导体品牌，旗下产品有光刻胶、稀释剂、抗反射涂层、发泡剂、研磨剂等。

  2.国内龙头企业：

  晶瑞电材：微电子材料的平台型高新技术企业，围绕泛半导体材料和新能源材料两个方向，主导产品包括光刻胶及配套材料等。

  雅克科技：从事化学化工的企业，主要业务包括电子材料、液化天然气（LNG）保温板材和阻燃剂等。

  南大光电：国内唯一量产ArF光刻胶的硬核玩家，也是国内唯一实现二十八纳米制成光刻胶量产的企业，在高端光刻胶领域打破了国外垄断。

  上海新阳：专利狂魔+订单收割机，KrF厚膜光刻胶量产订单多，自研的一百九十三纳米光刻胶已通过验证。

  容大感光：华为、中芯御用供应商，半导体光刻胶打入顶级芯片厂供应链。

  江化微：光刻胶配套试剂覆盖中芯、华虹，2024年净利润同比暴增96%。

  鼎龙股份：高端光刻胶单体全球5%份额。

  华懋科技：高端光刻胶单体全球5%份额。

  彤程新材：国产ArF光刻胶破局者，首批产品性能对标国际大厂。

  东材科技：与韩国Chemax合资布局“光刻胶单体—树脂—成品”全链条

  飞凯材料：公司显示光刻胶全球市占率前三，国内TFT-LCD 正性光刻胶市占率超 30%。